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壓電/鐵電薄膜沉積磁控濺射+磁控濺射+金屬沉積系統(tǒng)重新招標(biāo)澄清或變更公告(1)

發(fā)布時(shí)間:2026-06-05

招標(biāo)項(xiàng)目編號(hào):0618-264TC26070A5
項(xiàng)目名稱(chēng):壓電/鐵電薄膜沉積磁控濺射+磁控濺射+金屬沉積系統(tǒng)
項(xiàng)目名稱(chēng)(英文):Magnetron Sputtering Deposition System for Piezoelectric/Ferroelectric and Metal Thin Films
招標(biāo)人:上海芯源創(chuàng)新中心
招標(biāo)機(jī)構(gòu):中招國(guó)際招標(biāo)有限公司
招標(biāo)機(jī)構(gòu)代碼:0618
招標(biāo)方式:公開(kāi)招標(biāo)
投標(biāo)報(bào)價(jià)方式:線下投標(biāo)
招標(biāo)結(jié)果:重新招標(biāo)

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